3-5.リソグラフィ

リソグラフィ:露光・現象工程とエッチング工程と合わせた工程

前工程の中でも重要な工程のひとつです。リソグラフティは、大きくフォトレジスト、露光(マスクパターンの転写)、エッチング(触刻による除去)、レジスト除去などの工程に分かれます。どの工程においても高い技術力を用い、作成できる半導体の性能を結論付けるといえます。